EDI超純水設備

　　原理及簡(jiǎn)介：

　　凱旭超純水設備二級反滲透系統出水電導率≤2-5μs/cm(25℃)進(jìn)入EDI系統， Electrodeionization 簡(jiǎn)稱(chēng)EDI是將電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機地結合起來(lái)的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù)，它利用電滲析過(guò)程中的極化現象對填充在淡水室中的離子交換樹(shù)脂進(jìn)行電化學(xué)ZS，再通過(guò)拋光混床系統達到電子級用水標準即電阻率≥18.2MΩ·cm(25℃)。

　　EDI膜堆主要由交替排列的陽(yáng)離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負電極組成。在直流電場(chǎng)的作用下，淡水室中離子交換樹(shù)脂中的陽(yáng)離子和陰離子沿樹(shù)脂和膜構成的通道分別向負極和正極方向遷移，陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子交換膜，陰離子透過(guò)陰離子交換膜，分別進(jìn)入濃水室形成濃水。同時(shí)EDI進(jìn)水中的陽(yáng)離子和陰離子跟離子交換樹(shù)脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續的ZS。傳統的離子交換樹(shù)脂飽和后需要化學(xué)間歇ZS。而EDI膜堆中的樹(shù)脂通過(guò)水的電解連續ZS，工作是連續的，不需要酸堿化學(xué)ZS。

 EDI超純水設備應用領(lǐng)域：

　　EDI超純水技術(shù)具有技術(shù)、操作簡(jiǎn)便、是清潔生產(chǎn)技術(shù)，在微電子工業(yè)、電力工業(yè)、醫藥工業(yè)、化工工業(yè)和實(shí)驗室等領(lǐng)域得到日趨廣泛的應用。

　　新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線(xiàn)路板、電路板、大規模、大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

　　超純水設備技術(shù)優(yōu)點(diǎn)：

　　EDI可代替傳統的混合離子交換技術(shù)(MB-DI)生產(chǎn)穩定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有以下優(yōu)點(diǎn):

　　1、離子交換樹(shù)脂的用量少，約相當于傳統離子交換法樹(shù)脂用量的5%。

　　2、離子交換樹(shù)脂不需酸，堿化學(xué)ZS，節約大量酸、堿和清洗用水，降低勞動(dòng)強度。

　　3、無(wú)廢酸、廢堿液排放，是清潔的生產(chǎn)技術(shù)。

　　4、過(guò)程實(shí)現自動(dòng)控制，產(chǎn)水水質(zhì)穩定，與RO等水處理技術(shù)相結合，能形成完善的純水、超純水生產(chǎn)線(xiàn)。

　　5、產(chǎn)水水質(zhì)高，可達到國家電子級水I級標準，電阻率為18MΩ·cm。

　　6、純水生產(chǎn)過(guò)程連續進(jìn)行，無(wú)需像離子交換床那樣一套在用一套ZS地重復設置。